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等離子去膠機

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等離子去膠機

干法去膠主要是利用等離子去膠機去除光刻膠，原理是利用電離氧氣產生的活化氧與光刻膠發生氧化反應并將其氧化成水汽和二氧化碳等排出腔室。等離子去膠的優點是去膠操作簡單、去膠效率高、環保、去膠后晶圓表面干凈光潔、無劃痕，而且對結構的其它層無損傷。

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氧等離子體去膠機NE-Q15FH

氧等離子體去膠機NE-Q15FH 氧等離子體去膠機是利用氧等離子體中的高反應活性的單原子氧極易與光刻膠中的碳氫氧高分子化合物發生聚合物反應，從而生成易揮發性的反應物，最終達到去除光刻膠層的目的。

等離子去膠機NE-Q15H

等離子去膠機NE-Q15H 等離子去膠機主要用于于晶圓去膠或掩膜去除等工藝，其由真空與壓力控制系統、圓柱狀石英腔體反應腔室、工藝氣體與控制系統、PLC控制系統、射頻及其匹配系統等構成。

等離子去膠機NE-PE13F

等離子去膠機NE-PE13F NE-PE13F是一款高性價比的干法去膠設備，可用于尺寸8英寸及以下樣品表面的活化和清潔處理。等離子去膠不僅操作簡單、去膠效率高、去膠后晶圓表面干凈光潔而且無劃痕、成本低、環保，有利于確保產品的質量。

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